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1.標準サイズと寸法
炭化ケイ素るつぼ (SiC) は、さまざまな炉のタイプと溶解容量に適合するよう、さまざまなサイズで製造されています:
モデル | 上部外径(mm) | 高さ (mm) | 底部外径(mm) | 対応炉型 |
---|---|---|---|---|
4000 | 910 | 1850 | 880 | 大容量電気/誘導炉 |
3000 | 860 | 1200 | 510 | 天然ガス/重油炉 |
2000 | 780 | 900 | 750 | 中周波誘導炉 |
1000 | 640 | 773 | 380 | 研究所/小規模鋳物工場 |
特定の運用要件を満たすために、特注サイズも可能です。
2.パフォーマンスの利点
2.1 熱特性
- 高い熱伝導性:迅速な熱伝達(1.5~2.5W/m・K)により、30%の溶融時間が短縮され、大幅なエネルギー節約につながる。
- 耐熱衝撃性:急激な温度変化(1,700℃まで)に耐え、クラックは発生しない。
2.2 機械的耐久性
- 硬度と耐摩耗性:モース硬度は9.5で、従来の黒鉛るつぼを大幅に上回る。
- 高強度:冷間圧壊強度(CCS)>80MPaで、高圧冶金プロセスに最適。
2.3 化学的安定性
- 耐酸性/耐アルカリ性:pH2~12の環境で安定、溶融金属腐食に強い(例:Cu、Al、Zn)。
- 耐酸化性:高温でSiO₂保護層が形成され、グラファイトの酸化を最小限に抑える。
3.産業用途
3.1 冶金・鋳造
- 非鉄金属溶解:高純度保持のため、銅、アルミニウム、金、銀の精錬に広く使用。
- 合金製造:工具鋼と希土類合金の合成に最適で、スラグ汚染を最小限に抑える。
3.2 化学処理
- 腐食性環境:化学反応器内の硫酸、アルカリ、溶融塩に耐える。
3.3 半導体製造
- 高純度溶解:シリコンやガリウムヒ素の結晶成長に適しており、不活性な化学的特性を活用している。
4.寿命の最適化
4.1 使用方法
- 予熱:サーマルショックを防ぐため、最初に使用する前に600℃まで徐々に加熱する。
- 積載制限:機械的ストレスを軽減するため、80%の容量を超えないようにしてください。
4.2 メンテナンス
- クリーニング:使用後は、研磨剤を含まない工具でスラグを除去する。
- ストレージ:吸湿やひび割れを防ぐため、乾燥した振動のない環境で保管してください。
4.3 寿命指標
- 標準使用最適条件下では6~10ヶ月(黒鉛るつぼは2~3ヶ月)。
- 高性能モデル:合金鋼の溶解で25サイクル以上を達成し、40%の交換コストを削減。
炭化ケイ素るつぼは、高温プロセスにおける精密性、効率性、および長寿命を必要とする産業にとって変革的です。その仕様、性能上の利点、および適切なメンテナンス方法を理解することで、産業界は業務効率と費用対効果を最大化できます。
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